在高質量光學元件的生產中, 對其表面的精細清洗是重要的和必不可少的. 微粒,膜層或水的任何痕跡會造成光學元件表面缺陷,造成薄膜鍍層的粘合不良和成品的報廢.
在加工各階段, 光學元件表面會聚集層積蠟、固定用松脂, 鈰氧化物, 清漆, 玻璃粉末, 研磨冷卻劑, 指紋和空氣中的灰塵, 在整個制造過程中, 必需具有能安全清除這些沾染物的技術手段.
時代超聲已開發出一種特殊的含水清洗方法,
所以產生出一種下一步鍍層操作所要求的高標準清洗的玻璃鏡片.
用于光學元件的含水化學清洗液是屬于無機物基的. 它們能乳化, 彌散或溶化液體中的污垢.這些化學清洗液是精心配方的, 是為環境保護部門認可的光學鏡片清洗液的替換品. 此外, 超聲為清除難清理或粘附力強的有機物污垢增加了效率.
清除這些污垢的關鍵因素是超聲和清洗溶液的溫度. 這二個因素的有效組合會軟化和懸浮起鏡片上的污垢。
清洗光學鏡片實例
要求: 從光學鏡片上清除蠟, 松脂、清漆和其它殘留物。
以前清洗方法： 用1.1.1三氯乙烷進行溶劑或蒸氣清洗.
推薦的清洗處理方法:
清洗:
在40KHZ加熱式超聲槽內清洗光學鏡片, 槽內是溫度為1800F的堿性溶液.
嚴重沾污的鏡片會從采用同樣化學溶液的前置超聲清洗中獲得有效清洗. 當乳化的蠟和松脂含量高時, 推薦采用過濾處理以延長化學溶液的使用時間.
漂洗:
用1500F的熱水進行噴射漂洗. 在輸入水溫為1500F的第1漂洗工位, 用40KHZ超聲進行去離子熱水的二級串接漂洗.
為了保持最后漂洗工位所要求的純度和潔凈度, 需要對輸入水進行微米級過濾.
干燥:
從最后漂洗工位出來進行慢提拉干燥.
對某些光學器件而言, 也許需要吹熱風再循環干燥器作為其輔助干燥方法. 為保持器件的潔凈度, 推薦采用HEPA過濾.
設備:
TIME帶有干燥器的標準形式的含水清洗系統. 可確保重復性和一致性清洗的自動傳送系統.
優點:
含水清洗能比溶劑清洗產生更潔凈的器件.
不需要改變蠟, 松脂或清漆的規格.
在清洗和干燥處理中避免使用消耗臭氧的溶劑.
選用的閉環離子水回收利用能避免排水.
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